Высокотемпературный столик для рентгеновской дифрактометрии APX1200

Арт. APX1200

Для исследований методом рентгеновской дифрактометрии;
Режимы измерения: отражение / пропускание;
Нагрев до 1200 °C;
Дугообразное окно.

Подробнее

Описание
Характеристики

Описание

APX1200 — высокотемпературный нагревательный столик для in situ исследований методом рентгеновской дифрактометрии (XRD). Система предназначена для изучения структурных и фазовых изменений материалов непосредственно в процессе нагрева и обеспечивает контролируемое изменение температуры образца в диапазоне от комнатной температуры до 1200 °C.

Столик APX1200 интегрируется с рентгеновскими дифрактометрами ведущих производителей, включая Rigaku, Bruker, Thermo Fisher Scientific, Shimadzu и Malvern Panalytical. Для адаптации к различным моделям XRD-систем доступны индивидуально разработанные крепления и переходные пластины.

Особенности

Высокотемпературный столик обеспечивает точное программируемое управление температурой с возможностью работы в нескольких режимах: поддержание заданной температуры, линейное изменение температуры с заданной скоростью и многоступенчатые температурные программы.

Конструкция поддерживает измерения в геометрии отражения и пропускания. Дугообразное окно обеспечивает широкий диапазон углов дифракции 2θ от 0° до 164°. В качестве материала окна используется пленка Kapton, обладающая высокой рентгеновской прозрачностью и подходящая для проведения XRD-исследований при повышенных температурах.

Преимущества

Температурный диапазон: от комнатной температуры до 1200 °C
Стабильность температуры: ±0,1 °C
Скорость нагрева/охлаждения: 0,1–20 °C/мин
Резистивный нагрев
Диапазон углов дифракции 2θ: 0–164°
Режимы измерения: отражение / пропускание
Материал окна: пленка Kapton
Программируемое управление температурой: заданная температура, линейное изменение и сегментированные программы
Возможность адаптации под различные модели рентгеновских дифрактометров
Совместимость с XRD-системами Rigaku, Bruker, Thermo Fisher Scientific, Shimadzu и Malvern Panalytical

Применение

APX1200 подходит для высокотемпературных in situ XRD-исследований материалов, позволяя регистрировать изменения кристаллической структуры непосредственно в процессе термического воздействия. Столик может использоваться для исследования фазовых превращений, термической стабильности материалов, процессов кристаллизации и рекристаллизации, изменения параметров кристаллической решетки и других температурно-зависимых структурных процессов.

Система может применяться в материаловедении, физике твердого тела, химии, исследованиях керамики, металлов и сплавов, полупроводников, функциональных и композиционных материалов.

Характеристики

Технические характеристики

Параметр	Значение
Модель	APX1200
Метод нагрева	Резистивный нагрев
Температурный диапазон	Комнатная температура – 1200 °C
Стабильность температуры	±0,1 °C
Скорость нагрева/охлаждения	0,1–20 °C/мин
Держатель образца	Керамический, 20 × 20 мм
Диапазон углов дифракции 2θ	0–164°
Материал окна	Пленка Kapton
Камера	Атмосферная
Размеры	120 × 120 × 88,5 мм
Масса	0,8 кг

Базовая комплектация

система управления;
высокотемпературный столик APX1200 — 1 шт.;
контроллер температуры — 1 шт.;
рециркуляционный охладитель — 1 шт.;
кабели;
трубки;
необходимые принадлежности.

Дополнительные опции

адаптер / переходная пластина для установки на XRD-систему;
рециркуляционный охладитель в индивидуальной конфигурации;
компьютер;
специализированное программное обеспечение для управления температурой.

APX1200 представляет собой готовое решение для проведения in situ высокотемпературной рентгеновской дифрактометрии. Широкий диапазон углов 2θ, нагрев до 1200 °C, высокая стабильность температуры и возможность адаптации под различные модели дифрактометров позволяют использовать систему для исследования структурных и фазовых превращений материалов в контролируемых температурных условиях.