Арт. AP200HMM
Решения для материаловедения и оптоэлектроники
Эти оптические нагревательные столики разработаны для применения в:
- материаловедении;
- исследованиях полупроводников;
- оптоэлектронике;
- нанотехнологиях;
- биофотонике;
- геологии.
Оборудование обеспечивает наблюдение оптических свойств образцов в реальном времени при контролируемой температуре, что особенно важно для изучения фазовых переходов, температурной стабильности материалов и процессов деградации.
AP600HSM — высокоточный нагрев до 600 °C
Модель AP600HSM предназначена для высокотемпературных исследований в диапазоне от комнатной температуры до +600 °C. Система оснащена резистивным нагревом и обеспечивает температурную стабильность ±0,1 °C.
Среди ключевых особенностей:
- поддержка работы в режимах отражённого и проходящего света;
- высокая скорость нагрева — до 150 °C/мин;
- кварцевые окна JGS2 с диапазоном пропускания 220–2500 нм;
- компактная атмосферная камера;
- возможность интеграции в автоматизированные исследовательские комплексы.
Столик подходит для исследований тонких плёнок, полупроводниковых структур, люминесцентных материалов и процессов термической обработки.
AP200HMM — компактный формат для микроскопии
Модель AP200HMM ориентирована на компактные лабораторные установки и микроскопические системы. Столик выполнен в миниатюрном форм-факторе с открытой архитектурой без камеры, что облегчает доступ к образцу и упрощает интеграцию оборудования.
Преимущества:
- компактные размеры — всего 40 × 40 × 12 мм;
- температурная стабильность ±0,1 °C;
- высокая скорость нагрева;
- малый вес — 0,2 кг;
- удобство использования в задачах оптической микроскопии.
Интеграция и автоматизация
Для обеих моделей доступны SDK и инструменты интеграции LabVIEW, C#, Python. Это позволяет использовать столики в составе автоматизированных измерительных комплексов и научных установок с пользовательским управлением и программируемыми сценариями экспериментов.
Столики с функцией нагрева и охлаждения в нашем каталоге поддерживают различные методы термоконтроля, включая резистивный нагрев, TEC-охлаждение, охлаждение жидким азотом и гелием, а также инфракрасный и лазерный нагрев. В зависимости от конфигурации системы рабочий диапазон может достигать от 4 K до 1700 °C.
