Dilase 250 — это компактная и универсальная система прямого лазерного экспонирования (Direct Laser Writing, DLW), разработанная компанией Kloe. Прибор обеспечивает фотолитографию без масок и открывает широкие возможности для таких областей, как микрофлюидика (изготовление PDMS чипов), микромеханика, фотоника и микроэлектроника.
Устройство особенно эффективно для быстрого прототипирования, изготовления фотолитографических масок и микроструктур непосредственно на тонких или толстых пленочных подложках толщиной от десятков до сотен микрометров. Благодаря уникальной конструкции оптической системы Dilase 250 одинаково качественно работает как с тонкими пленками, так и с толстым фоторезистом, сохраняя вертикальные стенки и низкую шероховатость краев.
Система поддерживает три режима экспонирования — векторный, сканирующий и комбинированный. Встроенные программные решения KloeDesign и DilaseSoft обеспечивают полный цикл — от проектирования до записи, а также удобную работу в многопользовательской среде.
Особенности и преимущества
- Прибор настольного формата — компактный формат для лабораторий и исследовательских центров.
- Высокая глубина резкости — стабильное качество экспонирования в толстых и тонких слоях фоторезиста.
- Режим векторной записи — идеально ровные края без сшивок и шероховатости.
- Соотношение сторон (1:20) — точные микроструктуры даже в слоях большой толщины.
- Поддержка DXF и GDSII — быстрая интеграция в рабочие процессы и производственные цепочки.
- Программное обеспечение KloeDesign и DilaseSoft — от CAD-проектирования до литографии.
- Многопользовательский режим — оптимально для коллективных лабораторий и учебных центров.
Области применения
- Микрофлюидики — формирование каналов и микроструктур PDMS чипов.
- Микроэлектроника — разработка и изготовление схем и масок.
- Микромеханика — создание прецизионных микроэлементов.
- Фотоника — производство оптических волноводов и микролинз.
- Прототипирование — быстрые тесты и разработка новых устройств.
