Системы KLOE Dilase сочетают компактность, высокую точность и удобство эксплуатации. Они позволяют быстро создавать прототипы микроструктур, подготавливать фотолитографические маски и вести запись как в тонких, так и в толстых слоях фоторезиста.
Преимущества:
- Оптимальное решение для производства PDMS-чипов для микрофлюидики.
- Работа без масок — прямая лазерная запись по цифровому проекту.
- Большая глубина резкости — стабильное качество в тонких и толстых фоторезистах.
- Три режима экспонирования: векторный, сканирующий и комбинированный.
- Идеально ровные края структур без шероховатости.
- ПО KloeDesign и DilaseSoft — полный цикл: от проектирования до литографии.
- Проверено на практике — оборудование уже используется нашими клиентами.
Области применения
Системы KLOE Dilase 125 и 250 востребованы в таких направлениях, как микрофлюидика, микроэлектроника, фотоника, микромеханика и прототипирование новых устройств. Они позволяют создавать сложные микроструктуры с высокой точностью и качеством поверхности, что делает их актуальными как для исследований, так и для прикладных разработок.
